[힘내라! 대한민국 경제] 올해 사상 최대 9조6000억 시설투자

중앙일보

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SK하이닉스

SK하이닉스는 기술 혁신을 통해 시장을 선도하고 있다. 올해는 인프라 및 연구개발 투자와 D램, 낸드 생산량 확대 등에 사상 최대 규모인 9조6000억원의 시설투자를 계획하고 있다. [사진 SK하이닉스]

SK하이닉스는 ‘기술 혁신’을 통해 급변하는 글로벌 시장을 선도할 방침이다. D램은 원가절감 효과가 큰 1x나노급 제품을 하반기 중에 양산할 계획이다. 특히 지난 1월에는 세계 최대 용량의 초저전력 모바일 D램인 LPDDR4X를 출시했다.

4월에 개발한 세계 최고 속도의 GDDR6 (Graphics DDR6) 그래픽 D램은 고품질·고성능 그래픽 메모리 시장에 대응할 계획이다. 이 제품은 향후 인공지능(AI), 가상현실(VR), 자율주행차, 4K 이상의 고화질 디스플레이 지원 등 차세대 성장 산업에서 필수적인 메모리 솔루션으로 활용될 전망이다.

SK하이닉스는 지난 4월 업계 최초 72단 256Gb TLC 3D 낸드플래시 개발에 성공했다. 256Gb 낸드는 이전 세대인 48단 제품보다 데이터를 저장하는 셀의 적층수를 1.5배 높이고 기존 양산 설비를 최대한 활용해 생산성을 30% 향상했다. 칩 내부에 고속 회로 설계를 적용해 내부 동작 속도를 두 배 더 높여 읽기와 쓰기 성능을 20%가량 끌어올렸다. 이로써 고성능·고신뢰성·저전력을 구현해 3D 낸드 기반 솔루션 사업 경쟁력을 한층 강화했다.

SK하이닉스는 기술 경쟁력의 강화와 지속적인 미래 성장 기반 확보, 증가하는 시장 수요 대응을 위해 적극적인 투자를 이어가고 있다. SK하이닉스는 지난해 6조2920억원의 투자를 집행했다. 올해는 인프라 및 연구개발 투자와 D램, 낸드 생산량 확대 등에 사상 최대 규모인 9조6000억원의 시설투자를 계획하고 있다. 낸드플래시 수요 확대에 대응하기 위해 이르면 내년 말까지 2조2000억원을 투자해 충북 청주에 최첨단 반도체 공장을 건설 예정이다. 중국 우시에 위치한 기존 D램 공장의 클린룸 역시 9500억원을 투입해 확장한다는 계획이다.

송덕순 객원기자 song.deoksoon@joongang.co.kr