오존층 파괴물질로 국제적 사용규제를 받고 있는CFC(염화불화탄소.프레온가스)를 대체하는 물질 개발이 활발하다.
15일 특허청에 따르면 지난 87년 오존층 보호를 위한 몬트리올 의정서가 채택된이후 작년까지 CFC 대체물질의 특허 출원건수는 총 245건으로 이 중 HCFC(수소화염화불화탄소)계는 60건이고 HFC(수소화불화탄소)계는 125건이었다.
출원건수를 국적별로 보면 내국인이 40건이었고 ▲미국인 66건 ▲프랑스인 49건▲일본인 44건 ▲기타 외국인 46건 등이었다.
연도별 출원현황을 보면 염소원자를 수소로 일부 치환한 HCFC계는 지난 94년 이후 감소했으나 염소가 결합되지 않은 HFC계는 증가 추세에 있었다.
특허청 관계자는 "선진국에서는 5-6년 전부터 오존층을 파괴하지 않으면서 지구온난화에 영향을 적게 미치는 `제3의 CFC 대체물질'' 개발에 주력하고 있다"며 "국내에서도 CFC를 `장기적으로'' 대체할 수 있는 제3의 물질 개발이 시급하다"고 말했다.
한편 냉장고와 에어컨의 냉매나 전자제품 세정제로 사용되는 CFC는 우리나라가지난 92년 2월 몬트리올 의정서에 가입하면서 오는 2010년 1월부터 CFC 소비를 금지하는 규제기준을 적용받고 있다.
