삼성전자, 국내 반도체 생산에 21조여원 추가 투자

삼성전자가 국내 반도체 생산 라인에 추가로 21조여원을 투자한다. 삼성전자는 4일 경기 평택시 고덕산업단지의 반도체 라인에서 제품 출하식을 열고 이같은 계획을 밝혔다.

4일 평택 반도체 공장 제품 출하식서 밝혀 #15.6조원 투입한 평택에 14.4조 추가 투자 #화성 사업장 노광장비 생산에 6조원 더 쏟아 #3D 낸드 수요 폭증... "시안도 추가 증설할 것"

삼성전자 평택캠퍼스 반도체 생산라인 외경. [사진 삼성전자]

4일 가동이 시작된 평택 반도체 라인은 단일 라인 기준 세계 최대 규모다. 2015년 5월 착공해 26개월만에 완공됐으며, 건설 현장에 투입된 근로자가 일 평균 1만2000여명에 이른다. 이 현장에서 생산되는 제품은 4세대 64단 3차원(3D) 낸드플래시. 최근 저장장치인 솔리드스테이트드라이브(SSD)의 수요가 확대되며 가격이 급등하고 있는 제품이다. 출하식에 참석한 권오현 삼성전자 부회장은 “평택 반도체 단지는 삼성전자 반도체의 미래를 위한 새로운 도전”이라며 “첫 도전을 성공적으로 준비해 준 임직원과 협력사에 감사의 뜻을 전한다”고 말했다.

삼성전자 평택캠퍼스 항공사진. [사진 삼성전자]

삼성전자는 평택 반도체 라인 본격 가동과 함께 반도체ㆍ디스플레이 생산라인 증설 등에 37조원 이상을 투자하겠다는 계획을 밝혔다. 특히 평택 단지에 대한 증설에 나서 기존 투자 금액을 포함해 2021년까지 모두 30조원의 투자를 단행하겠다는 계획이다. 평택 1라인에 지금까지 15조6000억원이 투자된 것을 감안하면 순수 추가 투자액은 14조4000억원 수준이다.

삼성전자 4세대 3D 낸드플래시. [사진 삼성전자]

또 화성 사업장에 6조원을 투입해 극자외선(EUV) 노광장비를 활용한 신규 반도체 라인을 확보하기로 했다. 삼성전자 관계자는 “이 외에 2014년 완공된 중국 시안(西安)의 반도체 라인도 추가로 증설해 낸드플래시 최대 수요처인 중국 시장에 대응한다는 전략”이라고 설명했다.

임미진 기자 mijin@joongang.co.kr