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<뉴스다이제스트>현대전자,高집적반도체장비 개발

중앙일보

입력

지면보기

종합 26면

현대전자는 1기가 D램 이상의 차세대 초고집적반도체 제조에 필수적인 반도체제조장비를 개발하는데 성공했다고 2일 발표했다.
이 장비는 화학물질간의 반응으로 형성된 가스입자들을 웨이퍼 표면에 달라붙게 해 절연막(絶緣膜)이나 전도성막(傳 導性膜)을 형성시키는데 사용된다고 이 회사는 설명했다.

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