日 의존하던 '반도체 소재' 국산화 성공…"수준 더 우수하다"

국가핵융합연구소 홍용철 박사. [국가핵융합연구소 제공]

일본에서 전량 수입해온 반도체 공정 코팅 소재를 정부출연 연구기관과 중소기업이 국산화에 성공했다. 29일 국가핵융합연구소(핵융합연)는 미세 분말 상태에서도 응집하지 않는 용사 코팅 소재 '이트륨 옥사이드(Y₂O₃)''를 용사 코팅 전문업체 세원하드페이싱과 함께 최초로 제조했다고 밝혔다.

이트륨 옥사이드는 반도체 공정 장비에 필요한 소재로 그동안 국내 반도체 제조사가 일본에서 수입해 쓰고 있다.

용사 코팅은 분말 상태의 재료를 반도체 부품 표면에 뿌려 입히는 기술이다. 제품의 내열·내구성을 높이는 과정이다.

우리나라에서 만든 이트륨 옥사이드는 핵융합연의 플라스마 기술을 적용했다.

플라스마 기술을 적용해 입자가 고운 이트륨 옥사이드(왼쪽)와 일반 제품. [국가핵융합연구소 제공]

핵융합연은 국산 이트륨 옥사이드 제품 수준은 일본 것보다 우수하다고 설명했다. 분말끼리 서로 밀어내는 반발력이 생겨 응집되지 않고 흐름을 좋게 만들 수 있어 치밀하고 균일한 코팅막을 형성하는데 입자 크기나 유동도 측면에서 일본산을 뛰어넘는다는 것이다.

국가핵융합연구소 홍용철 박사는 "플라스마 기술은 반도체 공정 말고도 다양한 소재 산업에 활용할 수 있다"며 "이를 활용한 소재 기술 국산화 연구를 지속할 계획"이라고 말했다.

 정은혜 기자 jeong.eunhye1@joongang.co.kr