삼성전자-한국표준과학연구원,반도체 초정밀 측정기술 공동개발

삼성전자는 한국 표준과학연구원과 함께 세계 최고 수준의 반도체 초정밀 측정기술과 표준시료.측정장비등을 개발하는데 성공했다고 12일 발표했다.

2년간의 공동연구를 통해 개발된 이 기술은 최소 6nm (1나노미터는 10억분의 1) 수준의 초정밀 박막측정과 반사율.표면저항등 3개분야에 적용되는 혁신적인 측정기술이다.

이 회사는 새 기술이 아직 세계표준안이 확립되지 않은 이 분야의 표준안으로 제시될 수 있을 것이라고 주장했다.

삼성전자측은 이번 기술개발을 통해 그동안 미국이 주도해 온 초고집적.초정밀 반도체 표준 기술 분야에 진출, 앞으로 국가간의 첨단기술 경쟁에서 유리한 입장에 설 수 있을 것으로 기대한다고 덧붙였다.

이승녕 기자