삼성전자는 한국 표준과학연구원과 함께 세계 최고 수준의 반도체 초정밀 측정기술과 표준시료.측정장비등을 개발하는데 성공했다고 12일 발표했다.
2년간의 공동연구를 통해 개발된 이 기술은 최소 6㎚ (1나노미터는 10억분의 1) 수준의 초정밀 박막측정과 반사율.표면저항등 3개분야에 적용되는 혁신적인 측정기술로 이 분야의 세계표준안으로 제시될 수 있을 것이라고 삼성전자는 설명했다.
삼성전자는 한국 표준과학연구원과 함께 세계 최고 수준의 반도체 초정밀 측정기술과 표준시료.측정장비등을 개발하는데 성공했다고 12일 발표했다.
2년간의 공동연구를 통해 개발된 이 기술은 최소 6㎚ (1나노미터는 10억분의 1) 수준의 초정밀 박막측정과 반사율.표면저항등 3개분야에 적용되는 혁신적인 측정기술로 이 분야의 세계표준안으로 제시될 수 있을 것이라고 삼성전자는 설명했다.
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