내년 7월부터는 실용신안 출원시 기초적 요건만 갖추면 바로 등록해 주는 실용신안 선 (先) 등록제가 시행되고 같은 기술에 대해 특허.실용신안의 이중 (二重) 출원이 가능해 진다.
또 단 한번의 한글 출원으로도 원하는 국가에 동시에 특허를 출원할 수 있게 된다.
특허청은 이와같은 내용을 주요골자로 하는 실용신안법과 특허법 개정안을 마련, 24일 입법예고했다.
개정안에 따르면 실용신안은 출원후 3~6개월내에 조기 등록해 주고 권리행사를 할 때 권리의 유효성여부를 사후 (事後) 심사하게 된다.
이에따라 실용신안 등록에 걸리는 기간이 37개월에서 6개월이내로 대폭 단축되고 권리존속기간은 현행 15년에서 10년으로 줄어든다.
또한 특허와 실용신안을 동시에 출원하고 등록권리를 부여받는 시점에서 둘중 하나만을 등록, 권리를 조기에 행사할 수 있게 된다.
특허청은 이 개정안을 오는 정기국회에 상정, 시행령과 하위법령을 개정해 전면 시행할 방침이다.
양영유 기자
