日 반도체 명성 되찾기엔, 당황스러운 ‘2나노 도전장’

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일본이 과거의 영광을 되찾기 위해 단단히 벼르고 있습니다. 지난해 말, 일본 반도체 기업 연합체인 ‘라피더스(Rapidus)’는 미국 IBM과 손잡고 ‘2nm(나노미터·10억 분의 1m)’ 반도체 파운드리 전장에 도전장을 내밀었습니다. TSMC와 삼성전자 같은 파운드리 선두 주자들도 ‘3nm’ 경쟁이 한창인데, 일본은 3nm보다 더 어려운 ‘2nm’을 구현하겠다고 선언한 겁니다.

현재 일본의 반도체 제조 기술력은 약 40nm 수준이라고 알려져 있습니다. 선두권과 기술 시차가 10년 이상 벌어진 상태입니다. 일본은 세계시장과의 격차를 단번에 뛰어넘을 묘수라도 찾은 걸까요.

일본은 몇 가지 난제를 해결해야 합니다. 우선 ‘극자외선(EUV·Extreme UV) 노광기’를 확보하는 문제가 있습니다. ‘EUV 노광기’는 반도체 공정 핵심인 패터닝(patterning)에 필수 장비입니다. 패터닝은 ‘실리콘 웨이퍼’ 원판 위에 트랜지스터를 밀도 있게 집적하는 공정이죠. 네덜란드 회사 ASML이 이 노광기를 독점 생산하고 있습니다.