SK키파운드리, 차세대 전력 반도체 ‘질화갈륨’ 연내 개발 박차

중앙일보

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8인치 순수 파운드리 반도체 기업 SK키파운드리(대표이사 이동재)가 차세대 전력 반도체 질화갈륨(GaN)의 주요 소자 특성을 확보하고, 연내 개발 완료를 목표로 박차를 가하고 있다고 19일 밝혔다.

SK키파운드리는 질화 갈륨  전력 반도체의 시장성과 잠재력에 주목해 2022년 정식 팀을 구성, 공정을 개발해 왔으며, 최근 650V 질화갈륨 에이치이엠티(HEMT) 소자 특성을 확보했다.

650V 질화갈륨 에이치이엠티(HEMT)는 전력 효율이 높아 실리콘 기반 제품보다 방열 기구 비용을 감소시켜 기존 실리콘과 비교해 최종 고객의 시스템 가격이 큰 차이가 나지 않게 된다. 이는 실리콘 기반의 650V 제품으로 고속 충전 어댑터, LED 조명, 데이터센터와 ESS, 태양광 마이크로 인버터 등 시장에서 비즈니스 중인 팹리스 고객들의 프리미엄 제품 개발에 유리한 장점으로 작용할 것이라는 게 회사 측의 설명이다.

SK키파운드리는 신규 고객 발굴과 함께 650V GaN HEMT에 깊은 관심을 보이는 다수의 기존 전력 반도체 공정 사용 고객에게 적극 프로모션에 나선다는 방침이다.

질화갈륨은 고속 스위칭 및 낮은 온(ON)저항 특성을 가지고 있어 기존 실리콘 기반의 반도체보다 저손실, 고효율, 소형화가 가능한 차세대 전력반도체로 불린다. 시장조사기관 옴디아(OMDIA)에 따르면 질화갈륨 전력 반도체 시장은 2023년 5억불에서 2032년 64억불까지 연평균 33% 성장할 것으로 전망되며, 주로 전원 공급 장치, 하이브리드 및 전기차, 태양광 발전 인버터 등에 사용된다.

SK키파운드리 관계자는 “650V GaN HEMT를 기반으로 다양한 전압의 GaN HEMT와 GaN IC까지 제공할 수 있는 GaN 포트폴리오를 구축해 나갈 계획”이라고 전했다.

SK키파운드리 이동재 대표는 "SK키파운드리의 강점인 고전압 비씨디(BCD)와 더불어 차세대 전력반도체를 준비 중"이라며, "질화갈륨(GaN) 뿐만 아니라 향후 SiC까지 전력 반도체 라인업을 넓혀 전력 반도체 전문 파운드리로 자리매김하겠다."고 말했다.

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